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變壓吸附提氫裝置

變壓吸附制氫裝置以含有氫氣的混和氣(氨分解氣、甲醇重整、天然氣重整等等)為原料,通過特殊的分子篩,利用變壓吸附的原理在常溫下來獲取氫氣的設(shè)備。根據(jù)氣體中氫、氮等氣體在分子篩表面的吸附量的差異及氫和氮在碳分子篩中的擴(kuò)散速率不同,通過可編程序控制器控制程控閥的啟閉,實現(xiàn)加壓吸附、減壓脫附的過程,完成氫、氮等氣體的分離,得到所需純度的氫氣。

產(chǎn)品參數(shù)/ Product parameter

產(chǎn)品原理介紹:
變壓吸附制氫裝置以含有氫氣的混和氣(氨分解氣、甲醇重整、天然氣重整等等)為原料,通過特殊的分子篩,利用變壓吸附的原理在常溫下來獲取氫氣的設(shè)備。根據(jù)氣體中氫、氮等氣體在分子篩表面的吸附量的差異及氫和氮在碳分子篩中的擴(kuò)散速率不同,通過可編程序控制器控制程控閥的啟閉,實現(xiàn)加壓吸附、減壓脫附的過程,完成氫、氮等氣體的分離,得到所需純度的氫氣。
產(chǎn)品設(shè)計特點:
● 啟動速度快,快速提供合格的氫氣;
● 設(shè)備全自動運行,全過程可實現(xiàn)無人值守;
● 高效的分子篩裝填,更緊、更實,更長的使用壽命;
● 壓力、純度、流量穩(wěn)定可調(diào),滿足客戶的不同需要;
● 結(jié)構(gòu)合理,安全穩(wěn)定,設(shè)備投資小能耗小
主要技術(shù)指標(biāo):
原料氣:
壓力:10-13bar
常壓露點:≤60℃
油含量:≤0.003mg/m3
原料氣量:隨氫氣量和純度變化
產(chǎn)品氫氣:
壓力:≤12bar
常壓露點:≤-60℃
純度:99.9%
氫氣量:5-1000N m3/h
應(yīng)用:
電子行業(yè):應(yīng)用于單晶硅的制造和集成電路生產(chǎn)的擴(kuò)散等工藝,發(fā)光二極管和LD液晶顯示屏的生產(chǎn)制造。
冶金行業(yè): 應(yīng)用于精密銅帶鋼帶的中間退火和成品退火。
機械行業(yè):應(yīng)用于軸承和精密機械零件的退火工藝。
粉末冶金行業(yè):應(yīng)用于粉末冶金中的燒結(jié)工序。
鎢鉬還原行業(yè):四管爐,多管爐,還原爐的氫氣深度還原工藝。
用于精密的不銹鋼板,不銹鋼管,碳鋼管,碳鋼板的光亮退火。
不銹鋼粉末冶金的燒結(jié),氫氣用來保護(hù)
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