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變壓吸附提氫裝置

變壓吸附制氫裝置以含有氫氣的混和氣(氨分解氣、甲醇重整、天然氣重整等等)為原料,通過特殊的分子篩,利用變壓吸附的原理在常溫下來獲取氫氣的設備。根據(jù)氣體中氫、氮等氣體在分子篩表面的吸附量的差異及氫和氮在碳分子篩中的擴散速率不同,通過可編程序控制器控制程控閥的啟閉,實現(xiàn)加壓吸附、減壓脫附的過程,完成氫、氮等氣體的分離,得到所需純度的氫氣。

產品參數(shù)/ Product parameter

產品原理介紹:
變壓吸附制氫裝置以含有氫氣的混和氣(氨分解氣、甲醇重整、天然氣重整等等)為原料,通過特殊的分子篩,利用變壓吸附的原理在常溫下來獲取氫氣的設備。根據(jù)氣體中氫、氮等氣體在分子篩表面的吸附量的差異及氫和氮在碳分子篩中的擴散速率不同,通過可編程序控制器控制程控閥的啟閉,實現(xiàn)加壓吸附、減壓脫附的過程,完成氫、氮等氣體的分離,得到所需純度的氫氣。
產品設計特點:
● 啟動速度快,快速提供合格的氫氣;
● 設備全自動運行,全過程可實現(xiàn)無人值守;
● 高效的分子篩裝填,更緊、更實,更長的使用壽命;
● 壓力、純度、流量穩(wěn)定可調,滿足客戶的不同需要;
● 結構合理,安全穩(wěn)定,設備投資小能耗小
主要技術指標:
原料氣:
壓力:10-13bar
常壓露點:≤60℃
油含量:≤0.003mg/m3
原料氣量:隨氫氣量和純度變化
產品氫氣:
壓力:≤12bar
常壓露點:≤-60℃
純度:99.9%
氫氣量:5-1000N m3/h
應用:
電子行業(yè):應用于單晶硅的制造和集成電路生產的擴散等工藝,發(fā)光二極管和LD液晶顯示屏的生產制造。
冶金行業(yè): 應用于精密銅帶鋼帶的中間退火和成品退火。
機械行業(yè):應用于軸承和精密機械零件的退火工藝。
粉末冶金行業(yè):應用于粉末冶金中的燒結工序。
鎢鉬還原行業(yè):四管爐,多管爐,還原爐的氫氣深度還原工藝。
用于精密的不銹鋼板,不銹鋼管,碳鋼管,碳鋼板的光亮退火。
不銹鋼粉末冶金的燒結,氫氣用來保護
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